Китай Покрытие из карбида кремния Производитель,Поставщик,Завод

VeTek Semiconductor специализируется на производстве продуктов с покрытиями из сверхчистого карбида кремния. Эти покрытия предназначены для нанесения на очищенный графит, керамику и компоненты из тугоплавких металлов.

Наши покрытия высокой чистоты в первую очередь предназначены для использования в полупроводниковой и электронной промышленности. Они служат защитным слоем для носителей пластин, токоприемников и нагревательных элементов, защищая их от агрессивных и реактивных сред, возникающих в таких процессах, как MOCVD и EPI. Эти процессы являются неотъемлемой частью обработки пластин и производства устройств. Кроме того, наши покрытия хорошо подходят для применения в вакуумных печах и нагревании образцов, где встречаются условия высокого вакуума, реактивные и кислородные среды.

В VeTek Semiconductor мы предлагаем комплексное решение с использованием наших передовых возможностей механического цеха. Это позволяет нам производить базовые компоненты с использованием графита, керамики или тугоплавких металлов и наносить керамические покрытия SiC или TaC собственными силами. Мы также предоставляем услуги по нанесению покрытий на детали, поставляемые заказчиком, обеспечивая гибкость для удовлетворения разнообразных потребностей.

Наши продукты с покрытием из карбида кремния широко используются в эпитаксии Si, эпитаксии SiC, системе MOCVD, процессе RTP/RTA, процессе травления, процессе травления ICP/PSS, процессах различных типов светодиодов, включая синие и зеленые светодиоды, УФ-светодиоды и глубокие УФ-светодиоды. Светодиод и т. д., адаптированный к оборудованию LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI и так далее.

Детали реактора, которые мы можем сделать:

Покрытие из карбида кремния имеет ряд уникальных преимуществ:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Параметры покрытия из карбида кремния VeTek Semiconductor

Основные физические свойства покрытия CVD SiC
Свойство	Типичное значение
Кристаллическая структура	FCC β-фаза поликристаллическая, преимущественно (111) ориентированная
Карбид кремния Плотность покрытия	3,21 г/см³
Покрытие SiCТвердость	Твердость 2500 по Виккерсу (нагрузка 500 г)
Размер зерна	2~10 мкм
Химическая чистота	99,99995%
Теплоемкость	640 Дж·кг^-1·К^-1
Температура сублимации	2700℃
изгибная прочность	415 МПа РТ 4-точечный
Модуль Юнга	Изгиб 430 ГПа, 4 точки, 1300 ℃
Теплопроводность	300 Вт·м^-1·К^-1
Тепловое расширение (КТР)	4,5×10-6К^-1

КРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ СТРУКТУРА ПЛЕНКИ CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Эпи-суцептор с покрытием из карбида кремния Вафельный носитель с покрытием SiC Крышка сателлита с покрытием SiC для MOCVD CVD SiC-покрытие вафельного эписуссептора Нагревательный элемент с CVD-покрытием SiC Aixtron Satellite вафельный носитель Эпиприемник с покрытием SiC Детали из полумесяца с графитовым покрытием SiC

View as

Твердая газовая душевая головка SiC

Газовая душевая головка из твердого карбида кремния играет важную роль в обеспечении однородности газа в процессе CVD, обеспечивая тем самым равномерный нагрев подложки. VeTek Semiconductor уже много лет активно занимается производством устройств из твердого карбида кремния и может предоставить клиентам индивидуальные газовые душевые головки из твердого карбида кремния. Независимо от ваших требований, мы с нетерпением ждем вашего запроса.

Читать далее Отправить запрос

Процесс химического осаждения из паровой фазы Твердое кольцо из карбида кремния

VeTek Semiconductor всегда занималась исследованиями, разработками и производством передовых полупроводниковых материалов. Сегодня компания VeTek Semiconductor добилась большого прогресса в производстве краевых колец из твердого карбида кремния и может предоставлять клиентам полностью адаптированные кромочные кольца из твердого карбида кремния. Кромки из твердого карбида кремния обеспечивают лучшую однородность травления и точное позиционирование пластины при использовании электростатического патрона, обеспечивая стабильные и надежные результаты травления. С нетерпением ждем вашего запроса и становимся долгосрочными партнерами друг друга.

Читать далее Отправить запрос

Твердое кольцо фокусировки для травления SiC

Фокусирующее кольцо для травления из твердого карбида кремния является одним из основных компонентов процесса травления пластин, которое играет роль в фиксации пластины, фокусировке плазмы и улучшении однородности травления пластин. Являясь ведущим производителем фокусирующих колец SiC в Китае, компания VeTek Semiconductor обладает передовыми технологиями и отработанным процессом и производит фокусировочное кольцо для травления из твердого SiC, которое полностью отвечает потребностям конечных клиентов в соответствии с требованиями клиентов. Мы с нетерпением ждем вашего запроса и становимся долгосрочными партнерами друг друга.

Читать далее Отправить запрос

<...14 15 16 17 18 >

Являясь профессиональным производителем и поставщиком Покрытие из карбида кремния в Китае, мы располагаем собственным заводом. Если вам нужны индивидуальные услуги, отвечающие конкретным потребностям вашего региона, или вы хотите купить передовые и надежные Покрытие из карбида кремния, произведенные в Китае, вы можете оставить нам сообщение.