VeTek Semiconductor является ведущим производителем и новатором газовой душевой насадки из твердого SiC в Китае. Мы уже много лет специализируемся на полупроводниковых материалах. Многопористая конструкция газовой душевой насадки VeTek Semiconductor Solid SiC гарантирует рассеивание тепла, выделяемого в процессе CVD. , обеспечивая равномерный нагрев подложки. Мы с нетерпением ждем долгосрочного сотрудничества с вами в Китае.
VeTek Semiconductor — интегрированная компания, занимающаяся исследованиями, производством и продажами. Имея более чем 20-летний опыт, наша команда специализируется на покрытиях SiC, TaC и CVD Solid SiC. Добро пожаловать на покупку у нас газовой душевой насадки из твердого карбида кремния.
Газовая душевая головка VeTek Semiconductor Solid SiC обычно используется для равномерного распределения газов-прекурсоров на поверхности подложки во время процессов CVD полупроводников. Использование материала CVD-SiC для душевых насадок дает ряд преимуществ. Его высокая теплопроводность помогает рассеивать тепло, выделяемое в процессе CVD, обеспечивая равномерное распределение температуры на подложке. Кроме того, химическая стабильность душевой насадки CVD sic позволяет ей противостоять агрессивным газам и агрессивным средам, обычно встречающимся в процессах CVD.
Конструкция душевых насадок CVD SiC может быть адаптирована к конкретным системам CVD и технологическим требованиям. Однако они обычно состоят из пластинчатого или дискообразного компонента с рядом прецизионно просверленных отверстий или пазов. Расположение и геометрия отверстий тщательно разработаны, чтобы обеспечить равномерное распределение газа и скорость потока по поверхности подложки.
Физические свойства твердого SiC | |||
Плотность | 3.21 | г/см3 | |
Сопротивление электричества | 102 | Ом/см | |
изгибная прочность | 590 | МПа | (6000кгс/см2) |
Модуль Юнга | 450 | ГПа | (6000кгс/мм2) |
Твердость по Виккерсу | 26 | ГПа | (2650кгс/мм2) |
К.Т.Э.(RT-1000℃) | 4.0 | х10-6/К | |
Теплопроводность (RT) | 250 | Вт/мК |