VeTek Semiconductor специализируется на производстве нитрида кремния и имеет команду исследований и разработок, состоящую из старших экспертов и лучших технических специалистов. Керамика из нитрида кремния обладает преимуществами твердости, термостойкости, износостойкости и коррозионной стойкости обычных керамических материалов, а также имеет такие преимущества, как хорошая термостойкость, сопротивление ползучести при высоких температурах, хорошая самосмазка и хорошая химическая стабильность, и широко применяется используется в новой энергетике, химической промышленности, аэрокосмической и полупроводниковой областях.
1. Отличная химическая стабильность.
Керамика из нитрида кремния обладает превосходной химической стабильностью и может противостоять воздействию различных сильных кислот, щелочей и агрессивных газов. В процессе производства полупроводников часто приходится иметь дело с агрессивными химическими веществами, керамика из нитрида кремния может обеспечить долгосрочную гарантию стабильной работы.
2. Отличные механические свойства.
Керамика из нитрида кремния обладает высокой твердостью, превосходной прочностью на сжатие и износостойкостью, способна выдерживать механические нагрузки и поверхностный износ, не поддается деформации или разрыву. Это механическое свойство делает его очень подходящим в качестве материала для конструкционных и технологических деталей полупроводникового оборудования.
3. Высокотемпературная стабильность.
Керамика из нитрида кремния может сохранять стабильность в высокотемпературных средах, ее нелегко размягчить или плавить, а также выдерживать высокотемпературную обработку и обращение в процессе производства полупроводников. Это позволяет использовать его при изготовлении ключевых компонентов высокотемпературного технологического оборудования, таких как захваты, компоненты реакционных камер и так далее.
4. Отличные изоляционные свойства.
Изоляционные свойства имеют решающее значение в производстве полупроводниковых приборов. Керамика из нитрида кремния обладает хорошими изоляционными свойствами, которые могут эффективно изолировать и защищать компоненты схемы от утечки тока или электромагнитных помех, помогая повысить стабильность и надежность устройства.
5. Теплопроводность и теплопроводность.
Керамика из нитрида кремния обладает высокой теплопроводностью, способна эффективно проводить и рассеивать выделяемое устройством тепло, помогая сохранять температурную стабильность устройства в процессе эксплуатации. Это имеет решающее значение для высокопроизводительной работы полупроводниковых устройств.
1. Электростатические патроны и компоненты камеры травления.
Керамика из нитрида кремния часто используется в качестве материалов для электростатических патронов и компонентов камеры травления в производстве полупроводников из-за ее превосходной химической стабильности и устойчивости к высоким температурам. Электростатические патроны используются для фиксации и стабилизации пластин или подложек, а компоненты камеры травления используются для защиты от агрессивных газов и высокотемпературных сред.
2. газораспределительные пластины и отражатели.
Керамика из нитрида кремния применяется также при производстве полупроводниковой аппаратуры в газораспределительных пластинах и отражателях. Газораспределительные пластины используются для равномерного распределения реактивных или защитных газов в реакционной камере, а отражатели используются для оптимизации распределения и отражения света внутри реакционной камеры для повышения эффективности и однородности реакции.
3. Держатели и термокомпоненты
Керамика из нитрида кремния часто используется в качестве держателей и компонентов терморегулирования в оборудовании для производства полупроводников. Эти компоненты должны обладать хорошей механической прочностью, износостойкостью и теплопроводностью, чтобы обеспечить стабильную работу оборудования и точность обработки устройства.
4. Подушечки для химико-механической полировки (CMP).
Керамика из нитрида кремния широко используется в качестве материала подушечек в процессе химико-механической полировки (ХМП). Он обладает превосходной плоскостностью и износостойкостью, а также может обеспечивать стабильную поддержку во время процесса полировки, обеспечивая плоскостность и точность поверхности полупроводниковой пластины.