В этой статье в основном описываются низкотемпературные эпитаксиальные технологии на основе GaN, включая кристаллическую структуру материалов на основе GaN, 3. требования к эпитаксиальной технологии и решения по реализации, преимущества низкотемпературной эпитаксиальной технологии, основанной на при......
Читать далееВ этой статье впервые представлены молекулярная структура и физические свойства TaC, а также основное внимание уделяется различиям и применению спеченного карбида тантала и карбида тантала CVD, а также популярных продуктов покрытия TaC от VeTek Semiconductor.
Читать далееВ этой статье анализируются причины, по которым покрытие SiC является ключевым материалом сердцевины для эпитаксиального роста SiC, и основное внимание уделяется конкретным преимуществам покрытия SiC в полупроводниковой промышленности.
Читать далее