В чем разница между CVD TaC и спеченным TaC?

1. Что такое карбид тантала?

Карбид тантала (TaC) представляет собой бинарное соединение тантала и углерода с эмпирической формулой TaCX, где X обычно варьируется в диапазоне от 0,4 до 1. Это очень твердые, хрупкие металлические проводящие тугоплавкие керамические материалы. Это коричнево-серые порошки, обычно спеченные. Карбид тантала как важный металлокерамический материал используется в коммерческих целях для изготовления режущих инструментов и иногда добавляется в сплавы карбида вольфрама.

Рисунок 1. Сырье из карбида тантала.

Карбид тантала керамика представляет собой керамику, содержащую семь кристаллических фаз карбида тантала. Химическая формула TaC, кубическая гранецентрированная решетка.

Рисунок 2.Карбид тантала — Википедия

Теоретическая плотность 1,44, температура плавления 3730-3830 ℃, коэффициент теплового расширения 8,3×10-6, модуль упругости 291 ГПа, теплопроводность 0,22 Дж/см·С·С, а пиковая температура плавления карбида тантала составляет около 3880℃, в зависимости от чистоты и условий измерения. Это значение является самым высоким среди бинарных соединений.

Рисунок 3.Химическое осаждение карбида тантала из газовой фазы в TaBr5&ndash

2. Насколько прочен карбид тантала?

Путем тестирования твердости по Виккерсу, вязкости разрушения и относительной плотности серии образцов можно определить, что TaC имеет лучшие механические свойства при давлении 5,5 ГПа и 1300 ℃. Относительная плотность, вязкость разрушения и твердость по Виккерсу TaC составляют 97,7%, 7,4МПам1/2 и 21,0ГПа соответственно.

Карбид тантала также называют керамикой из карбида тантала, которая в широком смысле является разновидностью керамического материала;методы получения карбида тантала включаютССЗметод, метод спеканияи т. д. В настоящее время метод CVD чаще используется в полупроводниках, имеющих высокую чистоту и высокую стоимость.

3. Сравнение спеченного карбида тантала и карбида тантала CVD.

В технологии обработки полупроводников спеченный карбид тантала и химическое осаждение карбида тантала из паровой фазы (CVD) являются двумя распространенными методами получения карбида тантала, которые имеют существенные различия в процессе получения, микроструктуре, характеристиках и применении.

3.1 Процесс подготовки

Спеченный карбид тантала: порошок карбида тантала спекается при высокой температуре и высоком давлении для придания формы. Этот процесс включает уплотнение порошка, рост зерна и удаление примесей.

Карбид тантала CVD: газообразный предшественник карбида тантала используется для химической реакции на поверхности нагретой подложки, и пленка карбида тантала осаждается слой за слоем. Процесс CVD обеспечивает хорошую возможность контроля толщины пленки и однородности состава.

3.2 Микроструктура

Спеченный карбид тантала: как правило, это поликристаллическая структура с большим размером зерен и пор. На его микроструктуру влияют такие факторы, как температура спекания, давление и характеристики порошка.

Карбид тантала CVD: обычно это плотная поликристаллическая пленка с небольшим размером зерен, позволяющая добиться высокоориентированного роста. На микроструктуру пленки влияют такие факторы, как температура осаждения, давление газа и состав газовой фазы.

3.3 Различия в производительности

Рисунок 4. Разница в производительности между спеченным TaC и TaCССЗ

3.4 Приложения

Спеченный карбид тантала: Благодаря своей высокой прочности, высокой твердости и устойчивости к высоким температурам он широко используется в режущих инструментах, износостойких деталях, высокотемпературных конструкционных материалах и других областях. Например, спеченный карбид тантала можно использовать для изготовления режущих инструментов, таких как сверла и фрезы, для повышения эффективности обработки и качества поверхности детали.

Карбид танталаССЗ: Благодаря свойствам тонкой пленки, хорошей адгезии и однородности широко используется в электронных устройствах, материалах покрытий, катализаторах и других областях. Например, карбид тантала CVD можно использовать в качестве межсоединений для интегральных схем, износостойких покрытий и носителей катализаторов.

-------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- ------------------------------

VeTek Semiconductor, производитель, поставщик и фабрика покрытий из карбида тантала, является ведущим производителем материалов покрытий из карбида тантала для полупроводниковой промышленности.

Наша основная продукция включает в себяДетали с покрытием из карбида танталаССЗ, спеченные детали с покрытием TaC для выращивания кристаллов SiC или процессов эпитаксии полупроводников. Нашей основной продукцией являются направляющие кольца с покрытием из карбида тантала, направляющие кольца с покрытием TaC, детали полумесяца с покрытием TaC, планетарные вращающиеся диски с покрытием из карбида тантала (Aixtron G10), тигли с покрытием TaC; Кольца с покрытием TaC; Пористый графит с покрытием TaC; графитовые токоприемники с покрытием из карбида тантала; Направляющие кольца с покрытием TaC; Пластины с покрытием из карбида тантала TaC; Вафельные токоприемники с покрытием TaC; Графитовые колпачки с покрытием TaC; Блоки с покрытием TaC и т. д. с чистотой менее 5 частей на миллион для удовлетворения требований клиентов.

Рисунок 5. Популярные продукты с покрытием TaC от VeTek Semiconductor

VeTek Semiconductor стремится стать новатором в индустрии покрытий из карбида тантала посредством непрерывных исследований и разработок итеративных технологий. 

Если вы заинтересованы в продукции TaC, пожалуйста, свяжитесь с нами напрямую..

Моб: +86-180 6922 0752

WhatsApp: +86 180 6922 0752

Электронная почта: anny@veteksemi.com