Сверхчистый графит Нижний полумесяц

VeTek Semiconductor является ведущим поставщиком сверхчистого графита Lower Halfmoon по индивидуальному заказу в Китае, уже много лет специализируясь на передовых материалах. Наш нижний полумесяц из сверхчистого графита специально разработан для эпитаксиального оборудования SiC и обеспечивает превосходную производительность. Изготовленный из сверхчистого импортного графита, он обеспечивает надежность и долговечность. Посетите наш завод в Китае, чтобы лично познакомиться с нашим высококачественным ультрачистым графитом Lower Halfmoon.

Отправить запрос

Описание продукта

VeTek Semiconductor является профессиональным производителем, специализирующимся на поставке сверхчистого графита Lower Halfmoon. Наша продукция Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon специально разработана для эпитаксиальных камер SiC и обеспечивает превосходную производительность и совместимость с различными моделями оборудования.

Функции:

Соединение: VeTek Semiconductor Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon предназначен для соединения с кварцевыми трубками, обеспечивая поток газа для вращения основания держателя.

Контроль температуры: продукт позволяет контролировать температуру, обеспечивая оптимальные условия внутри реакционной камеры.

Бесконтактная конструкция: установленный внутри реакционной камеры, наш сверхчистый графит Lower Halfmoon не контактирует напрямую с пластинами, обеспечивая целостность процесса.

Сценарий применения:

Наш нижний полумесяц из сверхчистого графита служит важнейшим компонентом эпитаксиальных камер SiC, где он помогает поддерживать содержание примесей ниже 5 частей на миллион. Тщательно контролируя такие параметры, как толщина и однородность концентрации легирующих примесей, мы обеспечиваем эпитаксиальные слои высочайшего качества.

Совместимость:

Нижний полумесяц сверхчистого графита VeTek Semiconductor совместим с широким спектром моделей оборудования, включая LPE, NAURA, JSG, CETC, NASO TECH и так далее.

Мы приглашаем вас посетить наш завод в Китае, чтобы лично ознакомиться с нашим высококачественным ультрачистым графитом Lower Halfmoon.

Основные физические свойства покрытия CVD SiC:

Основные физические свойства покрытия CVD SiC
Свойство	Типичное значение
Кристальная структура	FCC β-фаза поликристаллическая, преимущественно (111) ориентированная
Плотность	3,21 г/см³
Твердость	Твердость 2500 по Виккерсу (нагрузка 500 г)
Размер зерна	2~10 мкм
Химическая чистота	99,99995%
Теплоемкость	640 Дж·кг-1·К-1
Температура сублимации	2700℃
Предел прочности при изгибе	415 МПа РТ 4-точечный
Модуль для младших	Изгиб 430 ГПа, 4 точки, 1300 ℃
Теплопроводность	300Вт·м-1·К-1
Тепловое расширение (КТР)	4,5×10-6К-1

Цех по производству полупроводников ВеТек

Обзор производственной цепочки эпитаксии полупроводниковых чипов:

Горячие Теги: Сверхчистый графит Нижний полумесяц, Китай, Производитель, Поставщик, Фабрика, Индивидуальный, Купить, Усовершенствованный, Прочный, Сделано в Китае

Тег продукта

Связанная категория