Дом > Продукты > Покрытие из карбида тантала > Процесс эпитаксии SiC > Крышка с покрытием из карбида тантала
Крышка с покрытием из карбида тантала
  • Крышка с покрытием из карбида танталаКрышка с покрытием из карбида тантала

Крышка с покрытием из карбида тантала

VeTek Semiconductor является ведущим производителем и новатором покрытий с покрытием из карбида тантала в Китае. Мы уже много лет специализируемся на покрытиях TaC и SiC. Наша продукция обладает коррозионной стойкостью и высокой прочностью. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Отправить запрос

Описание продукта


Найдите огромный выбор покрытий с покрытием из карбида тантала из Китая на сайте VeTek Semiconductor. Обеспечьте профессиональное послепродажное обслуживание и разумную цену, с нетерпением ждем сотрудничества. Крышка с покрытием из карбида тантала, разработанная VeTek Semiconductor, представляет собой аксессуар, специально разработанный для системы AIXTRON G10 MOCVD с целью оптимизации эффективности и повышения качества производства полупроводников. Он тщательно изготовлен с использованием высококачественных материалов и изготовлен с предельной точностью, что обеспечивает выдающуюся производительность и надежность в процессах химического осаждения металлов и органических соединений (MOCVD).


Изготовленная из графитовой подложки, покрытой карбидом тантала (TaC) методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), крышка с покрытием из карбида тантала обеспечивает исключительную термическую стабильность, высокую чистоту и устойчивость к повышенным температурам. Эта уникальная комбинация материалов обеспечивает надежное решение для сложных условий эксплуатации системы MOCVD.


Крышка с покрытием из карбида тантала может быть адаптирована к полупроводниковым пластинам различных размеров, что делает ее подходящей для разнообразных производственных требований. Его прочная конструкция специально разработана для работы в сложных условиях MOCVD, обеспечивая длительную работу и сводя к минимуму время простоя и затраты на техническое обслуживание, связанные с носителями пластин и токоприемниками.


Включив покрытие TaC в систему AIXTRON G10 MOCVD, производители полупроводников могут добиться более высокой эффективности и превосходных результатов. Исключительная термическая стабильность, совместимость с пластинами разных размеров и надежная работа планетарного диска делают его незаменимым инструментом для оптимизации эффективности производства и достижения выдающихся результатов в процессе MOCVD.



Параметры продукта крышки с покрытием из карбида тантала

Физические свойства покрытия TaC
Плотность 14,3 (г/см³)
Удельная излучательная способность 0.3
Коэффициент теплового расширения 6,3 10-6
Твердость (ГК) 2000 Гонконг
Сопротивление 1×10-5Ом*см
Термическая стабильность <2500℃
Изменение размера графита -10~-20ум
Толщина покрытия Типичное значение ≥20 мкм (35 мкм±10 мкм)


Производительность пластины после использования наших компонентов:

the Wafer performance after using our components


Цех полупроводникового производства ВеТек:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


Обзор производственной цепочки эпитаксии полупроводниковых чипов:


Горячие Теги: Крышка с покрытием из карбида тантала, Китай, Производитель, Поставщик, Фабрика, По индивидуальному заказу, Купить, Усовершенствованный, Прочный, Сделано в Китае
Связанная категория
Отправить запрос
Пожалуйста, не стесняйтесь дать свой запрос в форме ниже. Мы ответим вам в течение 24 часов.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept