Нагреватель покрытия TaC

Нагреватель покрытия TaC — это высокопроизводительный нагревательный элемент, широко используемый в процессах производства полупроводников. Его поверхность покрыта карбидом тантала (TaC), что придает нагревателю превосходную устойчивость к высоким температурам, стойкость к химической коррозии и отличную теплопроводность.

Основные области применения нагревателя покрытия TaC в производстве полупроводников включают:

В процессе эпитаксиального выращивания нитрида галлия (GaN) нагреватель покрытия TaC обеспечивает точно контролируемую высокотемпературную среду, гарантирующую, что эпитаксиальный слой наносится на подложку с равномерной скоростью и высоким качеством. Его стабильная тепловая мощность помогает добиться точного контроля тонкопленочных материалов, тем самым улучшая производительность устройства.

Кроме того, в процессе химического осаждения металлоорганических соединений (MOCVD) в сочетании с высокой термостойкостью и теплопроводностью покрытия TaC нагреватель покрытия TaC обычно используется для нагрева реакционного газа и, обеспечивая равномерное распределение тепла, способствует его химическая реакция на поверхности подложки, тем самым улучшая однородность эпитаксиального слоя и образуя качественную пленку.

Являясь лидером отрасли в области производства нагревателей покрытий TaC, VeTek Semiconducto всегда поддерживает услуги по индивидуальной настройке продукции и приемлемые цены на продукцию. Независимо от ваших конкретных требований, мы подберем лучшее решение для ваших потребностей в нагревателе покрытия TaC и будем рады вашей консультации в любое время.

Основные физические свойства нагревателя покрытия TaC:

Магазины продукции VeTek Semiconductor TaC Coating Heater:

Обзор производственной цепочки эпитаксии полупроводниковых чипов: