Душевая насадка из карбида кремния

Душевая насадка VeTek Semiconductor из карбида кремния в основном изготовлена ​​из карбида кремния. При обработке полупроводников основной функцией душевой насадки из карбида кремния является равномерное распределение реакционного газа для обеспечения образования однородной пленки во время процесса.химическое осаждение из паровой фазы (CVD)илифизическое осаждение из паровой фазы (PVD)процессы. Благодаря превосходным свойствам SiC, таким как высокая теплопроводность и химическая стабильность, душевая насадка SiC может эффективно работать при высоких температурах, уменьшая неравномерность потока газа во времяпроцесс осажденияи тем самым улучшить качество слоя пленки.

Душевая насадка из карбида кремния может равномерно распределять реакционный газ через несколько сопел с одинаковым отверстием, обеспечивать равномерный поток газа, избегать слишком высоких или слишком низких локальных концентраций и, таким образом, улучшать качество пленки. В сочетании с превосходной устойчивостью к высоким температурам и химической стабильностьюCVD-карбид кремния, никакие частицы или загрязнения не выделяются во времяпроцесс нанесения пленки, что имеет решающее значение для поддержания чистоты осаждаемой пленки.

Кроме того, еще одним важным преимуществом душевой насадки CVD SiC является ее устойчивость к термической деформации. Эта особенность гарантирует, что компонент может сохранять физическую структурную стабильность даже в высокотемпературных средах, типичных для процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD) или физического осаждения из паровой фазы (PVD). Стабильность сводит к минимуму риск смещения или механического повреждения, тем самым повышая надежность и срок службы всего устройства.

Ведущий производитель и поставщик душевых насадок из карбида кремния в Китае. Самым большим преимуществом душевой насадки VeTek Semiconductor CVD из карбида кремния является способность предоставлять индивидуальные продукты и технические услуги. Наши преимущества индивидуального обслуживания могут удовлетворить различные требования разных клиентов к качеству поверхности. В частности, он поддерживает усовершенствованную настройку зрелых технологий обработки и очистки в ходе производственного процесса.

Кроме того, внутренняя стенка пор насадки для душа VeTek Semiconductor из карбида кремния тщательно обрабатывается, чтобы гарантировать отсутствие остаточного слоя повреждений, что улучшает общие характеристики в экстремальных условиях. Кроме того, наша насадка для душа CVD SiC имеет минимальную апертуру 0,2 мм, тем самым обеспечивая превосходную точность подачи газа и поддерживая оптимальный поток газа и эффекты осаждения тонкой пленки при производстве полупроводников.

ДАННЫЕ SEMКРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ СТРУКТУРА ПЛЕНКИ CVD SIC：

Основные физические свойства CVD Карбидно-карбидное покрытие：

Насадка для душа VeTek Semiconductor из карбида кремния: