Являясь ведущим отечественным производителем покрытий из карбида кремния и карбида тантала, компания VeTek Semiconductor способна обеспечить прецизионную обработку и равномерное покрытие эписунсептора с SiC-покрытием, эффективно контролируя чистоту покрытия и продукта ниже 5 частей на миллион. Срок службы продукта сопоставим со сроком службы SGL. Добро пожаловать, чтобы узнать нас.
Вы можете быть уверены, что купите эписунсцептор с покрытием SiC на нашем заводе.
Эпитаксиальный цилиндр VeTek Semiconductor с SiC-покрытием представляет собой специальный инструмент для процесса эпитаксиального выращивания полупроводников, обладающий множеством преимуществ:
Эффективная производственная мощность: эпитаксиальный токоприемник с покрытием SiC может вмещать несколько пластин, что позволяет выполнять эпитаксиальный рост нескольких пластин одновременно. Эта эффективная производственная мощность может значительно повысить эффективность производства и сократить производственные циклы и затраты.
Оптимизированный контроль температуры: Эпи-суцептор с покрытием SiC оснащен усовершенствованной системой контроля температуры для точного контроля и поддержания желаемой температуры роста. Стабильный контроль температуры помогает добиться равномерного роста эпитаксиального слоя и улучшить качество и консистенцию эпитаксиального слоя.
Равномерное распределение атмосферы: Эпи-приемник с покрытием SiC обеспечивает равномерное распределение атмосферы во время роста, гарантируя, что каждая пластина подвергается воздействию одинаковых атмосферных условий. Это помогает избежать различий в росте между пластинами и улучшает однородность эпитаксиального слоя.
Эффективный контроль примесей: конструкция Epi Susceptor с покрытием SiC помогает уменьшить проникновение и диффузию примесей. Он может обеспечить хорошую герметизацию и контроль атмосферы, уменьшить влияние примесей на качество эпитаксиального слоя и, таким образом, улучшить производительность и надежность устройства.
Гибкая разработка процесса: Эпи-сусицептор с покрытием SiC обладает гибкими возможностями разработки процесса, которые позволяют быстро регулировать и оптимизировать параметры роста. Это позволяет исследователям и инженерам быстро разрабатывать и оптимизировать процессы для удовлетворения потребностей эпитаксиального выращивания в различных приложениях и требованиях.
Основные физические свойства покрытия CVD SiC | |
Свойство | Типичное значение |
Кристальная структура | FCC β-фаза поликристаллическая, преимущественно (111) ориентированная |
Плотность | 3,21 г/см³ |
Твердость | Твердость 2500 по Виккерсу (нагрузка 500 г) |
Размер зерна | 2~10 мкм |
Химическая чистота | 99,99995% |
Теплоемкость | 640 Дж·кг-1·К-1 |
Температура сублимации | 2700℃ |
Предел прочности при изгибе | 415 МПа РТ 4-точечный |
Модуль для младших | Изгиб 430 ГПа, 4 точки, 1300 ℃ |
Теплопроводность | 300Вт·м-1·К-1 |
Тепловое расширение (КТР) | 4,5×10-6К-1 |