Дом > Продукты > Покрытие из карбида кремния > Кремниевая эпитаксия > Эпи-рецептор, покрытый карбидом кремния
Эпи-рецептор, покрытый карбидом кремния
  • Эпи-рецептор, покрытый карбидом кремнияЭпи-рецептор, покрытый карбидом кремния
  • Эпи-рецептор, покрытый карбидом кремнияЭпи-рецептор, покрытый карбидом кремния

Эпи-рецептор, покрытый карбидом кремния

Являясь ведущим отечественным производителем покрытий из карбида кремния и карбида тантала, компания VeTek Semiconductor способна обеспечить прецизионную обработку и равномерное покрытие эписунсептора с SiC-покрытием, эффективно контролируя чистоту покрытия и продукта ниже 5 частей на миллион. Срок службы продукта сопоставим со сроком службы SGL. Добро пожаловать, чтобы узнать нас.

Отправить запрос

Описание продукта

Вы можете быть уверены, что купите эписунсцептор с покрытием SiC на нашем заводе.

Эпитаксиальный цилиндр VeTek Semiconductor с SiC-покрытием представляет собой специальный инструмент для процесса эпитаксиального выращивания полупроводников, обладающий множеством преимуществ:

Эффективная производственная мощность: эпитаксиальный токоприемник с покрытием SiC может вмещать несколько пластин, что позволяет выполнять эпитаксиальный рост нескольких пластин одновременно. Эта эффективная производственная мощность может значительно повысить эффективность производства и сократить производственные циклы и затраты.

Оптимизированный контроль температуры: Эпи-суцептор с покрытием SiC оснащен усовершенствованной системой контроля температуры для точного контроля и поддержания желаемой температуры роста. Стабильный контроль температуры помогает добиться равномерного роста эпитаксиального слоя и улучшить качество и консистенцию эпитаксиального слоя.

Равномерное распределение атмосферы: Эпи-приемник с покрытием SiC обеспечивает равномерное распределение атмосферы во время роста, гарантируя, что каждая пластина подвергается воздействию одинаковых атмосферных условий. Это помогает избежать различий в росте между пластинами и улучшает однородность эпитаксиального слоя.

Эффективный контроль примесей: конструкция Epi Susceptor с покрытием SiC помогает уменьшить проникновение и диффузию примесей. Он может обеспечить хорошую герметизацию и контроль атмосферы, уменьшить влияние примесей на качество эпитаксиального слоя и, таким образом, улучшить производительность и надежность устройства.

Гибкая разработка процесса: Эпи-сусицептор с покрытием SiC обладает гибкими возможностями разработки процесса, которые позволяют быстро регулировать и оптимизировать параметры роста. Это позволяет исследователям и инженерам быстро разрабатывать и оптимизировать процессы для удовлетворения потребностей эпитаксиального выращивания в различных приложениях и требованиях.


Основные физические свойства покрытия CVD SiC:

Основные физические свойства покрытия CVD SiC
Свойство Типичное значение
Кристальная структура FCC β-фаза поликристаллическая, преимущественно (111) ориентированная
Плотность 3,21 г/см³
Твердость Твердость 2500 по Виккерсу (нагрузка 500 г)
Размер зерна 2~10 мкм
Химическая чистота 99,99995%
Теплоемкость 640 Дж·кг-1·К-1
Температура сублимации 2700℃
Предел прочности при изгибе 415 МПа РТ 4-точечный
Модуль для младших Изгиб 430 ГПа, 4 точки, 1300 ℃
Теплопроводность 300Вт·м-1·К-1
Тепловое расширение (КТР) 4,5×10-6К-1



Цех полупроводникового производства ВеТек


Обзор производственной цепочки эпитаксии полупроводниковых чипов:


Горячие Теги: Эпи-суцептор с SiC-покрытием, Китай, Производитель, Поставщик, Фабрика, Индивидуальный, Купить, Усовершенствованный, Прочный, Сделано в Китае
Связанная категория
Отправить запрос
Пожалуйста, не стесняйтесь дать свой запрос в форме ниже. Мы ответим вам в течение 24 часов.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept