Продукты

View as

Юбка с покрытием CVD SiC

VeTek Semiconductor — ведущий производитель, новатор и лидер в области покрытий CVD SiC и TAC в Китае. В течение многих лет мы уделяем особое внимание различным продуктам с покрытием CVD SiC, таким как юбка с покрытием CVD SiC, кольцо с покрытием CVD SiC, носитель покрытия CVD SiC и т. д. VeTek Semiconductor поддерживает индивидуальное обслуживание продуктов и удовлетворительные цены на продукцию и с нетерпением ждет вашего дальнейшего сотрудничества. консультация.

Читать далее Отправить запрос

Графитовый цилиндр CVD SiC

Графитовый цилиндр CVD SiC компании Vetek Semiconductor имеет решающее значение в полупроводниковом оборудовании, служащий защитным экраном внутри реакторов для защиты внутренних компонентов в условиях высоких температур и давлений. Он эффективно защищает от химикатов и высоких температур, сохраняя целостность оборудования. Обладая исключительной стойкостью к износу и коррозии, он обеспечивает долговечность и стабильность в сложных условиях эксплуатации. Использование этих чехлов повышает производительность полупроводниковых устройств, продлевает срок их службы, а также снижает требования к техническому обслуживанию и снижает риски повреждения. Обращайтесь к нам.

Читать далее Отправить запрос

Сопло для нанесения покрытия CVD SiC

Сопла для нанесения покрытия CVD SiC компании Vetek Semiconductor являются важнейшими компонентами, используемыми в процессе эпитаксии LPE SiC для нанесения материалов карбида кремния при производстве полупроводников. Эти сопла обычно изготавливаются из высокотемпературного и химически стабильного карбидокремниевого материала, что обеспечивает стабильность в суровых технологических условиях. Разработанные для равномерного осаждения, они играют ключевую роль в контроле качества и однородности эпитаксиальных слоев, выращенных в полупроводниковых приложениях. Надеемся на долгосрочное сотрудничество с вами.

Читать далее Отправить запрос

Защитное покрытие CVD SiC

Vetek Semiconductor предоставляет защитное покрытие CVD SiC, используемое в качестве защитного покрытия LPE SiC. Термин «LPE» обычно относится к эпитаксии при низком давлении (LPE) при химическом осаждении из паровой фазы при низком давлении (LPCVD). В производстве полупроводников ЖПЭ является важной технологией выращивания тонких монокристаллических пленок, часто используемых для выращивания эпитаксиальных слоев кремния или других эпитаксиальных слоев полупроводников. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникнут дополнительные вопросы.

Читать далее Отправить запрос

Блок CVD SiC для выращивания кристаллов SiC

VeTek Semiconductor специализируется на исследованиях, разработках и промышленном внедрении объемных источников CVD-SiC, покрытий CVD SiC и покрытий CVD TaC. Если взять в качестве примера блок CVD SiC для выращивания кристаллов SiC, технология обработки продукта является передовой, скорость роста высокая, устойчивость к высоким температурам и коррозионная стойкость высоки. Добро пожаловать, чтобы узнать.

Читать далее Отправить запрос

Душевая головка CVD SiC

VeTek Semiconductor является ведущим производителем и новатором душевых насадок CVD SiC в Китае. Мы уже много лет специализируемся на материалах SiC. Душевая насадка CVD SiC выбрана в качестве материала фокусирующего кольца из-за ее превосходной термохимической стабильности, высокой механической прочности и устойчивости к плазменная эрозия. Мы надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Читать далее Отправить запрос

<1 2 >