Графитовый цилиндр CVD SiC

Графитовый цилиндр CVD SiC компании Vetek Semiconductor играет важную роль в полупроводниковом оборудовании. Обычно он используется в качестве защитного покрытия внутри реактора для обеспечения защиты внутренних компонентов реактора в условиях высокой температуры и высокого давления. Эта защитная крышка может эффективно изолировать химические вещества и высокие температуры в реакторе, предотвращая повреждение оборудования. В то же время графитовый цилиндр CVD SiC также обладает превосходной стойкостью к износу и коррозии, что позволяет ему сохранять стабильность и долговечность в суровых рабочих условиях. Используя защитные чехлы из этого материала, можно улучшить производительность и надежность полупроводниковых устройств, продлевая срок службы устройства, одновременно уменьшая необходимость технического обслуживания и риск повреждения.

Графитовый цилиндр CVD SiC имеет широкий спектр применения в полупроводниковом оборудовании, включая, помимо прочего, следующие аспекты:

Оборудование для термообработки: графитовый цилиндр CVD SiC можно использовать в качестве защитного кожуха или теплового экрана в оборудовании для термообработки для защиты внутренних компонентов от высоких температур, обеспечивая при этом превосходную устойчивость к высоким температурам.

Реактор химического осаждения из паровой фазы (CVD): В реакторе CVD графитовый цилиндр CVD SiC можно использовать в качестве защитной крышки для камеры химической реакции, эффективно изолируя реакционное вещество и обеспечивая коррозионную стойкость.

Применение в агрессивных средах. Благодаря превосходной коррозионной стойкости графитовый цилиндр CVD SiC можно использовать в химически корродированных средах, таких как агрессивные газовые или жидкие среды при производстве полупроводников.

Оборудование для выращивания полупроводников: защитные крышки или другие компоненты, используемые в оборудовании для выращивания полупроводников, для защиты оборудования от высоких температур, химической коррозии и износа, чтобы обеспечить стабильность и долгосрочную надежность оборудования.

Высокая температурная стабильность, коррозионная стойкость, отличные механические свойства, теплопроводность. Благодаря этим превосходным характеристикам он помогает более эффективно рассеивать тепло в полупроводниковых устройствах, поддерживая стабильность и производительность устройства.

Основные физические свойства покрытия CVD SiC:

Производственные цеха:

Обзор производственной цепочки эпитаксии полупроводниковых чипов: