- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Продукты
VeTek — профессиональный производитель и поставщик в Китае. Наша фабрика поставляет углеродное волокно, керамику из карбида кремния, эпитаксию из карбида кремния и т. Д. Если вы заинтересованы в нашей продукции, вы можете задать вопрос сейчас, и мы свяжемся с вами в ближайшее время.
- View as
Носитель пластин с CVD-покрытием TaC
Являясь профессиональным производителем и заводом в Китае, компания VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier представляет собой инструмент для переноски пластин, специально разработанный для высоких температур и агрессивных сред в производстве полупроводников. и CVD TaC Coating Wafer Carrier обладает высокой механической прочностью, отличной коррозионной стойкостью и термической стабильностью, что обеспечивает необходимую гарантию для производства высококачественных полупроводниковых приборов. Ваши дальнейшие запросы приветствуются.
Читать далееОтправить запрос
Держатель вафель Epi
VeTek Semiconductor является профессиональным производителем и заводом в Китае держателей пластин Epi. Epi Wafer Holder — это держатель пластин для процесса эпитаксии при обработке полупроводников. Это ключевой инструмент для стабилизации пластины и обеспечения равномерного роста эпитаксиального слоя. Он широко используется в эпитаксионном оборудовании, таком как MOCVD и LPCVD. Это незаменимый прибор в процессе эпитаксии. Добро пожаловать на дальнейшую консультацию.
Читать далееОтправить запрос
Aixtron Satellite вафельный носитель
Являясь профессиональным производителем и новатором в Китае, компания VeTek Semiconductor's Aixtron Satellite Wafer Carrier представляет собой носитель пластин, используемый в оборудовании AIXTRON, в основном используемый в процессах MOCVD при обработке полупроводников и особенно подходит для высокотемпературных и высокоточных операций. процессы обработки полупроводников. Носитель может обеспечить стабильную поддержку пластины и равномерное осаждение пленки во время эпитаксиального выращивания MOCVD, что важно для процесса осаждения слоев. Добро пожаловать на дальнейшую консультацию.
Читать далееОтправить запрос
LPE Halfmoon SiC EPI Реактор
VeTek Semiconductor является профессиональным производителем реакторов LPE Halfmoon SiC EPI, новатором и лидером в Китае. LPE Halfmoon SiC EPI Reactor — это устройство, специально разработанное для получения высококачественных эпитаксиальных слоев карбида кремния (SiC), которые в основном используются в полупроводниковой промышленности. VeTek Semiconductor стремится предоставлять передовые технологии и решения для полупроводниковой промышленности и приветствует ваши дальнейшие запросы.
Читать далееОтправить запрос
Нагреватель покрытия TaC
VeTek Semiconductor является ведущим производителем и новатором нагревателей покрытия TaC в Китае. Этот продукт имеет чрезвычайно высокую температуру плавления (около 3880°C). Высокая температура плавления нагревателя покрытия TaC позволяет ему работать при чрезвычайно высоких температурах, особенно при выращивании эпитаксиальных слоев нитрида галлия (GaN) в процессе химического осаждения из паровой фазы металлоорганических соединений (MOCVD). VeTek Semiconductor стремится предоставлять передовые технологии и решения для полупроводниковой промышленности. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запрос
Физическое осаждение из паровой фазы
Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) полупроводников Vetek — это передовая технология, широко используемая при обработке поверхности и подготовке тонких пленок. Технология PVD использует физические методы для прямого преобразования материалов из твердого или жидкого состояния в газ и формирования тонкой пленки на поверхности целевой подложки. Эта технология обладает преимуществами высокой точности, высокой однородности и сильной адгезии и широко используется в полупроводниках, оптических устройствах, покрытиях для инструментов и декоративных покрытиях. Добро пожаловать для обсуждения с нами!
Читать далееОтправить запрос
