- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Продукты
VeTek — профессиональный производитель и поставщик в Китае. Наша фабрика поставляет углеродное волокно, керамику из карбида кремния, эпитаксию из карбида кремния и т. Д. Если вы заинтересованы в нашей продукции, вы можете задать вопрос сейчас, и мы свяжемся с вами в ближайшее время.
- View as
Кварцевый колокольчик
Vetek Semiconductor является профессиональным производителем и поставщиком полупроводниковых кварцевых колпаков в Китае. Наш полупроводниковый кварцевый колпак широко используется в ключевых компонентах оборудования для производства полупроводников, особенно в процессах CVD, диффузии, окисления и PVD. Vetek Semiconductor стремится предоставлять передовые полупроводниковые кварцевые колпаки и технические решения для полупроводниковой промышленности. Приветствуем ваши дальнейшие запросы.
Читать далееОтправить запрос
Токоприемник с покрытием MOCVD SiC
VeTek Semiconductor является ведущим производителем и поставщиком токоприемников с SiC-покрытием MOCVD в Китае, в течение многих лет специализирующимся на исследованиях, разработках и производстве продуктов с SiC-покрытиями. Наши токоприемники с покрытием MOCVD SiC обладают превосходной устойчивостью к высоким температурам, хорошей теплопроводностью и низким коэффициентом теплового расширения, играя ключевую роль в поддержке и нагреве пластин кремния или карбида кремния (SiC), а также в равномерном газовом осаждении. Добро пожаловать на консультацию.
Читать далееОтправить запрос
Держатель для лодок из карбида кремния высокой чистоты
VeTek Semiconductor предлагает индивидуальный держатель для пластин SiC высокой чистоты. Изготовленный из карбида кремния высокой чистоты, он имеет пазы, удерживающие пластину на месте и предотвращающие ее скольжение во время обработки. При необходимости также доступно покрытие CVD SiC. Являясь профессиональным и сильным производителем и поставщиком полупроводников, компания VeTek Semiconductor предлагает лодочный держатель для пластин SiC высокой чистоты, который отличается конкурентоспособной ценой и высоким качеством. VeTek Semiconductor надеется стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запрос
Подложка SiN
VeTek Semiconductor является ведущим производителем и поставщиком подложек SiN в Китае. Наша подложка из нитрида кремния обладает превосходной теплопроводностью, превосходной химической стабильностью и коррозионной стойкостью, а также превосходной прочностью, что делает ее высокоэффективным материалом для полупроводниковых применений. Подложка VeTekSemi SiN гарантирует, что вы получите выгоду от передовых технологий в области обработки полупроводников, строгого контроля качества и приветствует ваши дальнейшие консультации.
Читать далееОтправить запрос
Детали из полумесяца с графитовым покрытием SiC
Как профессиональный производитель и поставщик полупроводников, VeTek Semiconductor может предоставить различные графитовые компоненты, необходимые для систем эпитаксиального выращивания SiC. Эти детали из полумесяца с графитовым покрытием SiC предназначены для секции входа газа эпитаксиального реактора и играют жизненно важную роль в оптимизации процесса производства полупроводников. VeTek Semiconductor всегда стремится предоставить клиентам продукцию самого высокого качества по самым конкурентоспособным ценам. VeTek Semiconductor надеется стать вашим долгосрочным партнером в Китае.
Читать далееОтправить запрос
Пьедестал из плавленого кварца ALD
Являясь профессиональным производителем и поставщиком пьедесталов из плавленного кварца ALD в Китае, компания VeTek Semiconductor Pedestal из плавленного кварца ALD специально разработана для использования в процессах атомно-слоевого осаждения (ALD), химического осаждения из паровой фазы при низком давлении (LPCVD), а также процесса диффузии пластин, обеспечивая равномерное нанесение тонких пленок на поверхность пластин. Добро пожаловать на ваши дальнейшие запросы.
Читать далееОтправить запрос
