АЛД-приемник

VeTek Semiconductor является профессиональным производителем ALD Susceptor, покрытия CVD SiC и графитовой основы CVD TAC COATING в Китае. Компания Vetek Semiconductor совместно с производителями систем ALD разработала и произвела планетарные основания ALD с SiC-покрытием, чтобы удовлетворить высокие требования процесса ALD и равномерно распределить поток воздуха на подложке. Мы надеемся на дальнейшее сотрудничество с вами.

Отправить запрос

Описание продукта

Как профессионалАЛД-приемникпроизводитель в Китае, наш продуктАЛД-приемникТочный контроль температуры, равномерное распределение газа, отличная теплопроводность и другие характеристики продукта определяют, чтоАЛД-приемникиграет решающую роль в процессе атомно-слоевого осаждения (ALD). Важная роль, приветствуем вашу консультацию.

Равномерное нанесение тонкой пленки:ALD Susceptor обеспечивает равномерное осаждение атомных слоев по всей поверхности пластины в процессе осаждения атомных слоев (ALD). Его уникальная вращающаяся конструкция позволяет газам и реагентам равномерно контактировать с поверхностью пластины, что приводит к равномерной толщине пленки. Это имеет решающее значение для высокоточного производства полупроводников.

Улучшить качество осаждения: Оптимизируя контроль температуры и распределение газа, ALD Susceptor значительно улучшает качество и производительность пленки, уменьшая дефекты и неравномерность. Это делает его идеальным для производства высокоточных полупроводниковых и электронных устройств, обеспечивая надежность и производительность продукции.

Поддерживает обработку нескольких пластин:Некоторые конструкции ALD Susceptor позволяют обрабатывать несколько пластин одновременно, повышая эффективность производства. Это особенно важно для высокопроизводительных производственных сред, способных удовлетворить потребности крупномасштабного производства.

Вмещает вафли разных размеров и типов.:Сусцепторы ALD обычно разработаны с учетом высокой совместимости и могут поддерживать пластины разных размеров и типов. Это делает его эффективным в различных производственных процессах, обеспечивая большую гибкость и адаптируемость.

Снизить производственные затраты:Благодаря эффективному газораспределению и возможностям равномерного нагрева ALD Susceptor повышает эффективность процесса осаждения, тем самым сокращая отходы материала и производственные затраты. Это не только помогает повысить эффективность производства, но и значительно снижает производственные затраты.

Основные физические свойства покрытия CVD SiC: