Нанесение тонких пленок имеет жизненно важное значение в производстве чипов, создавая микроустройства путем нанесения пленок толщиной менее 1 микрона с помощью CVD, ALD или PVD. Эти процессы создают полупроводниковые компоненты посредством чередования проводящих и изолирующих пленок.
Читать далееПроцесс производства полупроводников включает восемь этапов: обработку пластин, окисление, литографию, травление, осаждение тонких пленок, соединение, тестирование и упаковку. Кремний из песка перерабатывается в пластины, окисляется, наносится рисунок и травится для создания высокоточных схем.
Читать далееВ этой статье описывается, что светодиодная подложка является крупнейшим применением сапфира, а также основные методы подготовки сапфировых кристаллов: выращивание кристаллов сапфира методом Чохральского, выращивание кристаллов сапфира методом Киропулоса, выращивание кристаллов сапфира методом управ......
Читать далееВ статье поясняется температурный градиент в монокристаллической печи. Он охватывает статические и динамические тепловые поля во время роста кристаллов, границу раздела твердого тела и жидкости и роль температурного градиента в затвердевании.
Читать далее