Кольцо предварительного нагрева

Кольцо предварительного нагрева — это ключевое оборудование, специально разработанное для эпитаксиального (EPI) процесса в производстве полупроводников. Он используется для предварительного нагрева пластин перед процессом EPI, обеспечивая температурную стабильность и однородность на протяжении всего эпитаксиального роста.

Наше кольцо предварительного нагрева EPI, изготовленное компанией VeTek Semiconductor, обладает рядом примечательных особенностей и преимуществ. Во-первых, он изготовлен из материалов с высокой теплопроводностью, что обеспечивает быструю и равномерную передачу тепла к поверхности пластины. Это предотвращает образование горячих точек и температурных градиентов, обеспечивая равномерное осаждение и улучшая качество и однородность эпитаксиального слоя.

Кроме того, наше кольцо предварительного нагрева EPI оснащено усовершенствованной системой контроля температуры, позволяющей точно и последовательно контролировать температуру предварительного нагрева. Этот уровень контроля повышает точность и повторяемость важнейших этапов, таких как рост кристаллов, осаждение материала и реакции на границе раздела в процессе EPI.

Долговечность и надежность являются важными аспектами конструкции нашей продукции. Кольцо предварительного нагрева EPI рассчитано на то, чтобы выдерживать высокие температуры и рабочее давление, сохраняя стабильность и производительность в течение длительного периода времени. Такой подход к проектированию снижает затраты на техническое обслуживание и замену, обеспечивая долгосрочную надежность и эксплуатационную эффективность.

Установка и эксплуатация кольца предварительного нагрева EPI просты, поскольку оно совместимо с обычным оборудованием EPI. Он оснащен удобным механизмом размещения и извлечения пластин, что повышает удобство и эффективность работы.

В VeTek Semiconductor мы также предлагаем услуги по настройке для удовлетворения конкретных требований клиентов. Это включает в себя адаптацию размера, формы и температурного диапазона кольца предварительного нагрева EPI в соответствии с уникальными производственными потребностями.

Для исследователей и производителей, занимающихся эпитаксиальным выращиванием и производством полупроводниковых устройств, кольцо предварительного нагрева EPI от VeTek Semiconductor обеспечивает исключительную производительность и надежную поддержку. Он служит важнейшим инструментом для достижения высококачественного эпитаксиального выращивания и обеспечения эффективных процессов производства полупроводниковых устройств.

Основные физические свойства покрытия CVD SiC:

Цех по производству полупроводников ВеТек

Обзор производственной цепочки эпитаксии полупроводниковых чипов: