Продукты

View as

Носитель пластин с CVD-покрытием TaC

Являясь профессиональным производителем и заводом в Китае, компания VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier представляет собой инструмент для переноски пластин, специально разработанный для высоких температур и агрессивных сред в производстве полупроводников. Этот продукт обладает высокой механической прочностью, отличной коррозионной стойкостью и термической стабильностью, что обеспечивает необходимую гарантию для изготовления полупроводниковых приборов высокого качества. Ваши дальнейшие запросы приветствуются.

Читать далее Отправить запрос

Держатель вафель Epi

VeTek Semiconductor является профессиональным производителем и заводом в Китае держателей пластин Epi. Epi Wafer Holder — это держатель пластин для процесса эпитаксии при обработке полупроводников. Это ключевой инструмент для стабилизации пластины и обеспечения равномерного роста эпитаксиального слоя. Он широко используется в эпитаксионном оборудовании, таком как MOCVD и LPCVD. Это незаменимый прибор в процессе эпитаксии. Добро пожаловать на дальнейшую консультацию.

Читать далее Отправить запрос

Aixtron Satellite вафельный носитель

Являясь профессиональным производителем и новатором в Китае, компания VeTek Semiconductor's Aixtron Satellite Wafer Carrier представляет собой носитель пластин, используемый в оборудовании AIXTRON, в основном используемый в процессах MOCVD при обработке полупроводников и особенно подходит для высокотемпературных и высокоточных операций. процессы обработки полупроводников. Носитель может обеспечить стабильную поддержку пластины и равномерное осаждение пленки во время эпитаксиального выращивания MOCVD, что важно для процесса осаждения слоев. Добро пожаловать на дальнейшую консультацию.

Читать далее Отправить запрос

LPE Halfmoon SiC EPI Реактор

VeTek Semiconductor является профессиональным производителем реакторов LPE Halfmoon SiC EPI, новатором и лидером в Китае. LPE Halfmoon SiC EPI Reactor — это устройство, специально разработанное для получения высококачественных эпитаксиальных слоев карбида кремния (SiC), которые в основном используются в полупроводниковой промышленности. VeTek Semiconductor стремится предоставлять передовые технологии и решения для полупроводниковой промышленности и приветствует ваши дальнейшие запросы.

Читать далее Отправить запрос

Нагреватель покрытия TaC

VeTek Semiconductor является ведущим производителем и новатором нагревателей покрытия TaC в Китае. Этот продукт имеет чрезвычайно высокую температуру плавления (около 3880°C). Высокая температура плавления нагревателя покрытия TaC позволяет ему работать при чрезвычайно высоких температурах, особенно при выращивании эпитаксиальных слоев нитрида галлия (GaN) в процессе химического осаждения из паровой фазы металлоорганических соединений (MOCVD). VeTek Semiconductor стремится предоставлять передовые технологии и решения для полупроводниковой промышленности. Мы с нетерпением ждем возможности стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Читать далее Отправить запрос

Физическое осаждение из паровой фазы

Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) полупроводников Vetek — это передовая технология, широко используемая при обработке поверхности и подготовке тонких пленок. Технология PVD использует физические методы для прямого преобразования материалов из твердого или жидкого состояния в газ и формирования тонкой пленки на поверхности целевой подложки. Эта технология обладает преимуществами высокой точности, высокой однородности и сильной адгезии и широко используется в полупроводниках, оптических устройствах, покрытиях для инструментов и декоративных покрытиях. Добро пожаловать для обсуждения с нами!

Читать далее Отправить запрос

<1 2 3 4 5...27 >