Дом > Новости > Новости отрасли

Что такое пористый графит? - ВеТек Полупроводник

2024-09-23

Пористый графит представляет собой изделие с пористой структурой, состоящее из графита в качестве основного материала. Его материал изготовлен из графита высокой чистоты. Физические параметры пористого графита VeTek Semiconductor варьируются в зависимости от производственного процесса и конкретного применения. Ниже приведены общие физические параметры:


Типичные физические свойствапористый графит
лт
Параметр
Объемная плотность
0,89 г/см2
Прочность на сжатие
8,27 МПа
Прочность на изгиб
8,27 МПа
Предел прочности
1,72 МПа
Удельное сопротивление
130 Ом-inX10-5
Пористость
50%
Средний размер пор
70ум
Теплопроводность
12W/M*K

Пористый графит изготовлен из графита высокой чистоты и обладает отличной электропроводностью, теплопроводностью, устойчивостью к высоким температурам, стойкостью к окислению, химической стабильностью и другими характеристиками. Он широко используется в промышленности по переработке полупроводников.


В процессе обработки полупроводников пористый графит широко используется в следующих аспектах::


В сочетании с превосходной устойчивостью к высоким температурам и химической стабильностью пористого графита, такой как хорошая коррозионная стойкость к большинству химикатов, таких как кислоты, щелочи и растворители, пористый графит часто используется в оборудовании для высокотемпературного спекания и термообработки. Например, пористый графит можно использовать в качестве футеровки, изоляционного материала или вспомогательного материала для высокотемпературных печей.


Кроме того, пористый графит обладает превосходной электропроводностью и термической стабильностью, что обеспечивает однородное тепловое поле и стабильные электрические свойства.

Поэтому этот продукт часто используется впроцесс диффузии или окисленияобработки полупроводников в качестве источника диффузии или электродного материала.


Пористая структура пористого графита может фильтровать и очищать газы, используемые при обработке полупроводников, уменьшать возможное загрязнение частицами и обеспечивать высокую чистоту во время обработки.


Благодаря своей пористой структуре и хорошей воздухопроницаемости пористый графит также можно использовать в качестве основы и крепления в системе вакуумной адсорбции для фиксации пластин или других компонентов посредством эффективной вакуумной адсорбции.


Регулируя процесс спекания графита, VeTek Semiconductor можетнастроить пористые графитовые материалы с различными размерами пор и пористостью для удовлетворения различных требований применения.


VeTek Semiconductor Porous GraphiteVeTek Semiconductor SiC Crystal Growth Porous GraphiteThree-petal Graphite Crucible

                                                                                 Пористый графит                       Пористый графит для выращивания кристаллов SiC             Трехлепестковый графитовый тигель




VeTek Semiconductor является профессиональным китайским производителем, поставщиком и фабрикой изделий из специального графита, таких какПористый графит для выращивания кристаллов SiC, Пиролитическое углеродное покрытие, Стекловидное углеродное покрытие, Изотропный графит, Силиконизированный графитиГрафитовый лист высокой чистоты. VeTek Semiconductor стремится предоставлять передовые решения для различных продуктов из специального графита для полупроводниковой промышленности.


Если у вас есть какие-либо вопросы или вам нужна дополнительная информация, пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам.

Моб/WhatsAPP: +86-180 6922 0752

Электронная почта: anny@veteksemi.com


X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept